cmos wafer cleaning machine (4) Producent internetowy
Metoda czyszczenia: dwupłynowe mycie w sprayu wodnym DI
Metoda sucha: Suszenie odśrodkowe
Metoda czyszczenia: dwupłynowe mycie w sprayu wodnym DI
Metoda sucha: Suszenie odśrodkowe
Metoda czyszczenia: dwupłynowe mycie w sprayu wodnym DI
Metoda sucha: Suszenie odśrodkowe
Metoda czyszczenia: dwupłynowe mycie w sprayu wodnym DI
Metoda sucha: Suszenie odśrodkowe
Wyślij do nas zapytanie