cmos wafer cleaning machine (4) Ηλεκτρονικός κατασκευαστής
Μέθοδος καθαρισμού: Πλύσιμο με ψεκασμό νερού διπλού υγρού DI
Ξηρή μέθοδος: Φυγοκεντρικό στεγνό
Μέθοδος καθαρισμού: Πλύσιμο με ψεκασμό νερού διπλού υγρού DI
Ξηρή μέθοδος: Φυγοκεντρικό στεγνό
Μέθοδος καθαρισμού: Πλύσιμο με ψεκασμό νερού διπλού υγρού DI
Ξηρή μέθοδος: Φυγοκεντρικό στεγνό
Μέθοδος καθαρισμού: Πλύσιμο με ψεκασμό νερού διπλού υγρού DI
Ξηρή μέθοδος: Φυγοκεντρικό στεγνό
Στείλτε το αίτημά σας απευθείας σε εμάς